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了解勻膠顯影機的原理
點擊次數:1084 更新時間:2016-08-25
  勻膠顯影機型號:SC100-DE
  
  SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備,它可以實現價值百萬美元設備(track)的上才可能達到穩定性和均勻性。
  
  不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀;工業級別200瓦伺服電機系統,采用與track設備相同設計和程序,使您的工藝更具有實際應用意義;同類產品中的zui大達到50000RPM/S的旋轉加速度,確保勻膠和顯影的穩定性和高的可重復性。
  
  主要性能指標:
  
  主機機箱采用不銹鋼材料(抗化學腐蝕易清潔)
  
  旋涂程序:zui多可存100組程序,每組100步,每個步驟可到0.1秒
  
  轉動速度:0-10,000rpm(更高速可選)
  
  旋涂加速度:0-50,000rpm/sec(空載)
  
  馬達旋涂轉速穩定性能誤差<±1rpm
  
  轉速調節精度<1rpm,重復性<1rpm
  
  工藝時間設定:0-3,000sec/step,時間設置精度:0.1sec
  
  支持wafer尺寸1cm-200mm(8“圓晶)
  
  標準配置兩路噴液系統(顯影液和去離子水)
  
  產品特性優點:
  
  主機在SC100-SE勻膠機上升級,增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋
  
  全程序編輯功能,更方便的智能化操作,更好的顯影/清洗效果
  
  可實現zui多獨立四路噴液用于顯影/清洗工作,或進行氮氣吹干
  
  控制器可實現程序自動控制噴液或進行手動操作,使用更加方便
  
  顯影系統可進行噴霧式、柱流式多種選擇,視要求進行配置
  
  提供客戶定制化的顯影系統配置和工裝設計
  
  高可靠性和重復性,高轉速精度和更高
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